SemiProcess MCP Server

# SemiProcess MCP 대화 예시 반도체 공정 분석 및 문제 해결을 위한 MCP 도구 사용 예시입니다. (CSV 형식 버전) --- ## 1. 불량 분석 **사용자:** ``` CMP 공정에서 웨이퍼 가장자리에서 깊은 스크래치가 발견되었어. 웨이퍼 ID는 W12345, 장비는 CMP-02, 최근 패드를 교체했고 슬러리 Lot도 변경했어. 원인 분석 좀 해줄래? ``` **MCP 도구 호출:** ```json { "name": "analyze_defect", "arguments": { "defect_code": "SCRATCH", "defect_description": "웨이퍼 가장자리 깊은 스크래치", "process_step": "CMP", "equipment_id": "CMP-02", "wafer_id": "W12345", "known_causes": ["패드 마모", "슬러리 오염"], "recent_changes": ["패드 교체", "슬러리 Lot 변경"] } } ``` --- ## 2. 불량 이력 분석 **사용자:** ``` 지난 3주일 간 스크래치 불량이 자꾸 발생해. 이 데이터로 패턴을 찾아줄 수 있을까? 2025-01-10, CMP-01, 3개, 패드교체, 해결 2025-01-08, CMP-02, 5개, 필터교체, 진행중 2025-01-06, CMP-03, 2개, 슬러리교체, 해결 2025-01-04, CMP-01, 4개, PM수행, 해결 ``` **MCP 도구 호출:** ```json { "name": "get_defect_history", "arguments": { "defect_type": "SCRATCH", "records_csv": "2025-01-10,CMP-01,3,패드교체,해결;2025-01-08,CMP-02,5,필터교체,진행중;2025-01-06,CMP-03,2,슬러리교체,해결;2025-01-04,CMP-01,4,PM수행,해결", "analysis_type": "equipment" } } ``` --- ## 3. 시정 조치 제안 **사용자:** ``` ETCH-01에서 갑자기 압력이 불안정해지고 있어. 재시작 후에도 계속 알람이 뜨고 있고, 엔지니어 2명이랑 필터 예비가 있어. 지금 즉시 어떻게 해야 해? (내 시간 제약은 2시간) ``` **MCP 도구 호출:** ```json { "name": "suggest_corrective_action", "arguments": { "problem_description": "압력 불안정", "affected_equipment": "ETCH-01", "severity": "critical", "current_status": "재시작 후에도 알람 반복 발생", "available_resources": ["엔지니어 2명", "필터 예비"], "time_constraint": "2시간 내" } } ``` --- ## 4. 기준 레시피 비교 **사용자:** ``` Oxide Etch 공정의 기준 레시피는: - 온도: 표준 60, 범위 55~65°C - 압력: 표준 30, 범위 25~35 mTorr 지금 현재 설정이: - 온도: 67°C - 압력: 28 mTorr 이게 정상 범위 내인지 확인해줄래? ``` **MCP 도구 호출:** ```json { "name": "compare_to_baseline", "arguments": { "recipe_name": "Oxide Etch", "baseline_params": "temperature:60:55:65,pressure:30:25:35", "baseline_units": "C,mTorr", "current_params": "temperature:67,pressure:28", "current_units": "C,mTorr" } } ``` --- ## 5. 두 레시피 비교 **사용자:** ``` A라인과 B라인의 레시피 설정을 비교하고 싶어. A라인: temperature 60, pressure 30, rf_power 800 B라인: temperature 62, pressure 28, rf_power 820 허용 편차: ±5% 정도? ``` **MCP 도구 호출:** ```json { "name": "compare_two_recipes", "arguments": { "recipe_a_name": "A라인", "recipe_a_params": "temperature:60,pressure:30,rf_power:800", "recipe_b_name": "B라인", "recipe_b_params": "temperature:62,pressure:28,rf_power:820", "tolerance_params": "temperature:5%,pressure:10%,rf_power:5%" } } ``` --- ## 6. 공정 윈도우 검증 **사용자:** ``` CVD 공정 온도 검증이 필요해. 공정 윈도우: - 온도: 450~500°C - 압력: 0.5~1.5 Torr 현재 설정: - 온도: 480°C - 압력: 0.8 Torr 중요 파라미터는 온도가 맞아. 이 조건이 유효한지 확인해줄래? ``` **MCP 도구 호출:** ```json { "name": "validate_process_window", "arguments": { "process_name": "CVD", "window_params": "temperature:450-500,pressure:0.5-1.5", "test_params": "temperature:480,pressure:0.8", "critical_params": "temperature" } } ``` --- ## 7. SPC 데이터 분석 **사용자:** ``` 이번 주 CD 측정값들을 SPC 분석해줄래? 측정값: 45.2, 45.8, 44.9, 46.1, 45.5, 45.3, 45.7, 46.0 nm 스펙: USL 50nm, LSL 40nm 목표: 45nm ``` **MCP 도구 호출:** ```json { "name": "analyze_spc_data", "arguments": { "parameter_name": "CD", "data_points": "45.2,45.8,44.9,46.1,45.5,45.3,45.7,46.0", "usl": 50, "lsl": 40, "target": 45 } } ``` --- ## 8. 불량 위험도 예측 (FMEA) **사용자:** ``` 현재 ETCH 공정의 리스크를 FMEA로 평가해줄래? 공정 윈도우: - 온도: 100~130°C - 압력: 50~100 mTorr 현재 설정: - 온도: 128°C - 압력: 92 mTorr 중요 파라미터는 온도야. 온도 심각도는 8/10, 압력은 5/10 정도로 봐. ``` **MCP 도구 호출:** ```json { "name": "predict_defect_risk", "arguments": { "process_name": "Etch", "window_params": "temperature:100-130,pressure:50-100", "current_params": "temperature:128,pressure:92", "severity_params": "temperature:8,pressure:5", "critical_params": "temperature" } } ``` --- ## 9. 트렌드 분석 **사용자:** ``` 어제 오전 ETCH-01의 온도 추이를 분석해줄 수 있을까? 시간: 08:00, 09:00, 10:00, 11:00, 12:00, 13:00 온도: 120.1, 120.3, 120.5, 121.2, 121.8, 122.3°C 스펙은 120~125°C고, 앞으로 3시간 더 추이를 예측해줄 수 있을까? ``` **MCP 도구 호출:** ```json { "name": "analyze_trend", "arguments": { "parameter_name": "Temperature", "data_points": "120.1,120.3,120.5,121.2,121.8,122.3", "timestamps": "08:00,09:00,10:00,11:00,12:00,13:00", "usl": 125, "lsl": 120, "forecast_count": 3 } } ``` --- ## 10. 메트릭 분석 **사용자:** ``` 이번 주(1월 2주차) KPI를 목표와 비교해줄 수 있을까? 현재: - 수율: 97.8% - CPK: 1.28 - 가동률: 89.5% 목표: - 수율: 98% - CPK: 1.33 - 가동률: 90% ``` **MCP 도구 호출:** ```json { "name": "analyze_metrics", "arguments": { "period": "2025년 1월 2주차", "metrics_data": "yield:97.8,cpk:1.28,uptime:89.5", "targets_data": "yield:98,cpk:1.33,uptime:90" } } ``` --- ## 11. 교대 리포트 생성 **사용자:** ``` 오늘 일근(Day shift) 교대 리포트를 만들어줄래? 날짜: 2025-01-15 투입: 200매, 완료: 195매, 목표: 200매, 수율: 98.2% 장비 상태: - ETCH-01: 정상 운영 - ETCH-02: PM 진행 중 - CVD-01: 정상 운영 불량: 5개 (파티클 3건, 스크래치 2건) 주요 이벤트: - 14:00 PM 시작 - 16:00 온도 경고 미결 조치: - ETCH-02 복구 확인 - 온도 모니터링 ``` **MCP 도구 호출:** ```json { "name": "generate_shift_report", "arguments": { "shift_info": "Day:2025-01-15", "production_data": "in:200,out:195,target:200,yield:98.2", "equipment_status": "ETCH-01:running:정상;ETCH-02:down:PM중;CVD-01:running:정상", "quality_data": "defects:5,major:파티클3건+스크래치2건", "events": "14:00 PM시작;16:00 온도경고", "pending_actions": "ETCH-02복구확인;온도모니터링" } } ``` --- ## 12. 장비 비교 분석 **사용자:** ``` 우리 CMP 장비 3대의 성능을 비교하고 싶어. CMP-01: 수율 98.5%, CPK 1.45, 가동률 92% CMP-02: 수율 97.2%, CPK 1.28, 가동률 88% CMP-03: 수율 98.1%, CPK 1.38, 가동률 91% 가중치: 수율 40%, CPK 30%, 가동률 30% 벤치마크: 수율 98%, CPK 1.33, 가동률 90% ``` **MCP 도구 호출:** ```json { "name": "analyze_equipment_comparison", "arguments": { "equipment_list": "CMP-01,CMP-02,CMP-03", "metrics_data": "CMP-01:yield:98.5,cpk:1.45,uptime:92;CMP-02:yield:97.2,cpk:1.28,uptime:88;CMP-03:yield:98.1,cpk:1.38,uptime:91", "weights_csv": "yield:0.4,cpk:0.3,uptime:0.3", "benchmark_csv": "yield:98,cpk:1.33,uptime:90" } } ``` --- ## 13. 레시피 최적화 방향 **사용자:** ``` CVD 공정 레시피를 개선하고 싶어. 현재 레시피: - 온도: 450°C - 압력: 1.0 Torr - 시간: 300초 현재 성과: - 박막 두께: 950 nm - 균일성: 92% - 수율: 97% 목표 성과: - 박막 두께: 1000 nm - 균일성: 95% - 수율: 98% ``` **MCP 도구 호출:** ```json { "name": "optimize_recipe_direction", "arguments": { "recipe_csv": "temperature:450,pressure:1.0,time:300", "perf_csv": "thickness:950,uniformity:92,yield:97", "target_csv": "thickness:1000,uniformity:95,yield:98" } } ``` --- ## 14. 파라미터 변경 시뮬레이션 **사용자:** ``` ETCH 시간을 300초에서 250초로 줄일 수 있을까? 현재 상태: - 레시피: temperature 120, time 300, pressure 75 - 성과: etch_rate 50, uniformity 91, yield 97 - 윈도우: temp 100-140, pressure 50-100 시간 단축 시 예상 영향: - etch_rate는 시간 단축 시 10 감소 - uniformity는 2% 악화 ``` **MCP 도구 호출:** ```json { "name": "simulate_parameter_change", "arguments": { "state_csv": "recipe:temperature:120,time:300,pressure:75;performance:etch_rate:50,uniformity:91,yield:97", "changes_csv": "time:250", "rules_csv": "time->etch_rate:-10;time->uniformity:-2", "window_csv": "temperature:100-140,pressure:50-100" } } ``` --- ## 15. 수율 영향도 계산 (DOE) **사용자:** ``` 온도를 +5°C, 압력을 +3 mTorr 올릴 경우 수율이 어떻게 변할까? 현재 기준 수율: 97.5% 파라미터 변경: 1. 온도: 65 → 70°C (영향도: 0.8%/°C) 2. 압력: 30 → 33 mTorr (영향도: 0.1%/mTorr) 상호작용 효과: - 온도×압력: -0.2% 신뢰도: 95% ``` **MCP 도구 호출:** ```json { "name": "calculate_yield_impact", "arguments": { "baseline_yield": 97.5, "changes_csv": "temperature:start:65,end:70,sensitivity:0.8;pressure:start:30,end:33,sensitivity:0.1", "interactions_csv": "temperature×pressure:-0.2", "confidence_level": 0.95, "model_type": "linear" } } ``` --- **Last Updated**: 2025-01-15 **MCP Version**: 2.0.0 **Format**: CSV-based input schema