Click on "Install Server".
Wait a few minutes for the server to deploy. Once ready, it will show a "Started" state.
In the chat, type
@followed by the MCP server name and your instructions, e.g., "@SemiProcess MCP ServerAnalyze the PARTICLE defect on wafer WF-123 during the Etch step."
That's it! The server will respond to your query, and you can continue using it as needed.
Here is a step-by-step guide with screenshots.
SemiProcess MCP Server
반도체 공정 관리용 MCP(Model Context Protocol) 서버입니다. 불량 해결, 공정조건 표준화, 공정 모니터링 관련 8개 MCP Tool을 제공합니다.
요구사항
MCP 사양 버전: 2025-03-26 이상
Streamable HTTP (SSE) 지원
Stateless FastAPI 서버
Python 3.11+, FastAPI,
mcp라이브러리공개 URL 배포 가능
설치
실행
엔드포인트
GET /health: 상태 확인GET|POST /mcp: MCP 엔드포인트 (SSE 포함)GET /: 서비스 메타 정보
제공 Tool 목록
불량 해결
analyze_defect(defect_code, process_step, wafer_id?)get_defect_history(defect_type, date_range?)suggest_corrective_action(defect_code, equipment_id, current_conditions)
공정조건 표준화
4. get_standard_recipe(process_type, layer)
5. compare_recipe(process_type, current_recipe{layer, ...}, equipment_id)
6. validate_process_window(process_type, parameters{layer, ...})
데이터 모니터링
7. get_process_metrics(equipment_id?, process_type?, time_range)
8. check_spc_status(parameter_name, equipment_id, chart_type)
모든 Tool의 content는 text/markdown(TextContent)으로 반환합니다. 각 Tool 입력은 JSON Schema로 정의되어 있으며 MCP Inspector에서 자동 인식됩니다.
Mock 데이터
불량 코드: PARTICLE, SCRATCH, PATTERN_DEFECT, CD_VARIATION, OVERLAY_ERROR
공정: Etch, CVD, PVD, Lithography, CMP, Ion Implant
장비: ETCH-01, CVD-02, LITHO-03 등
파라미터: 온도(°C), 압력(mTorr), RF Power(W), Gas Flow(sccm) 등
MCP Inspector 테스트
서버 실행 후 MCP Inspector를 열고 HTTP Transport를 선택합니다.
URL에
http://<host>:<port>/mcp입력 후 연결합니다.Tool 목록이 표시되며, 입력 스키마에 따라 호출할 수 있습니다.
Docker 빌드/실행
Vercel 배포
vercel.json및api/index.py가 포함되어 있습니다.Vercel 프로젝트에서 Python Runtime(3.11) 사용.
환경 변수 필요 시 Vercel Dashboard에 등록.
배포 후 엔드포인트:
GET /healthGET|POST /mcp
로깅
기본 INFO 레벨, 포맷:
%(asctime)s %(levelname)s %(name)s - %(message)s예외 발생 시 스택 트레이스가 로그에 남습니다.